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纳米硅薄膜研究的最新进展
纳米硅薄膜研究的最新进展
来源 :稀有金属 | 被引量 : 0次 | 上传用户:mtv138
【摘 要】
:
纳米硅薄膜(ncSi∶H)是一种新型低维人工半导体材料,它具有新颖的结构特征与独特的物理性质。综合评述了这种材料在制备方法、结构特征、输运性质和发光特性等方面的最新研究进展,并
【作 者】
:
彭英才
何宇亮
【机 构】
:
河北大学电子与信息工程学院,北京航空航天大学材料物理与化学研究中心
【出 处】
:
稀有金属
【发表日期】
:
1999年01期
【关键词】
:
纳米硅薄膜
制备方法
结构特征
输运性质
光学特性
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纳米硅薄膜(ncSi∶H)是一种新型低维人工半导体材料,它具有新颖的结构特征与独特的物理性质。综合评述了这种材料在制备方法、结构特征、输运性质和发光特性等方面的最新研究进展,并指出了今后的发展方向。
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