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在高空、低速、低雷诺数下，进行具有较强抗分离能力的新叶型研究，探索叶型设计的新概念和新方法，并发展相应的低雷诺数压气机叶片二维设计技术是十分关键的。文中进行了低雷诺数条件下二维压气机叶栅流场计算与对比，在探索高空、低速、低雷诺数对压气机叶型性能影响的基础上，以发展适应低雷诺数流动，具有较强抗分离能力的新叶型为最终目标，进行叶型设计新理论和新方法的探索，为最终突破低雷诺数下叶型设计的关键技术提供了可行的途径，并为三维叶片优化造型打下了基础。