【摘 要】
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采用直流磁控溅射法,在溅射气压为7.0×10-1 Pa和不同溅射功率（72～144W）下,制备出PEN/Ti纳米复合薄膜。研究了不同溅射功率对Ti膜微观组织、表面粗糙度、硬度及生长方式的影响规
【机 构】
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兰州理工大学省部共建有色金属先进加工与再利用国家重点实验室,中国科学院兰州化学物理研究所固体润滑国家重点实验室
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采用直流磁控溅射法,在溅射气压为7.0×10-1 Pa和不同溅射功率（72～144W）下,制备出PEN/Ti纳米复合薄膜。研究了不同溅射功率对Ti膜微观组织、表面粗糙度、硬度及生长方式的影响规律。结果表明,直流磁控溅射法在PEN柔性衬底上沉积的钛膜是一种纳米多晶薄膜;随着溅射功率的增加,钛膜沉积速率及钛膜弹性模量皆升高,而钛膜表面粗糙度与钛膜晶粒尺寸均减小;溅射功率的增加将抑制钛膜柱状生长方式。在溅射气压为7.0×10-1 Pa,溅射功率为144 W时的工艺参数下,获得性能最佳的复合薄膜。
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