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目的：
目前，国内X、γ刀的输出剂量及剂量分布尚无适宜的测量设备及相应的技术规范。由于X、γ刀剂量场的特点，不能用常规的电离室测量。本文的目的是为X、γ刀的剂量测量提供合理的设备和方法。
材料与方法：研制了灵敏区为1mm的半导体探测器和体积为0.03cc的石墨电离室。用该探测器测量了γ刀在各种模体中的输出剂量及剂量分布。
结果：用研制的SCD-61半导体剂量仪和0.03cc石墨电离室测量了不同模体、不同准直器的输出剂量及剂量分布，根据对球形模的测量值，计算出各种射野时头形模的量分布，用热释光剂量仪做了验证，焦点值均在5%范围内一致。
结论：X、γ刀的输出剂量及剂量分布应在现场进行实际测量，所用探头直径应小于射野直径的一半。灵敏区～1mm的半导体探测器适合作X、γ刀小野的测量。