邻菲口罗啉化学修饰碳糊电极三元络合物体系测定痕量钴

来源 :湖南大学学报(自然科学版) | 被引量 : 0次 | 上传用户:laopoxqq001
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制备了邻菲口罗啉化学修饰碳糊电极,在含噻吩甲酰三氟丙酮的HAc-NaAc体系中,Co(Ⅱ)离子经化学富集在电极表面上形成三元络合物.采用2.5次微分伏安法测定痕量Co(Ⅱ)离子.Co(Ⅱ)浓度在8.0×10-9~7.0×10-7mol·L-1范围内与阳极溶出峰峰高成良好的线性关系,检出限达1.2×10-9mol·L-1.电极用于水样中钴的测定,结果令人满意. In the HAc-NaAc system containing thiophanoyl trifluoroacetone, Co (Ⅱ) ions were chemically enriched on the surface of the electrode to form ternary complexes. Determination of Trace Co (Ⅱ) Ion by 2.5 Times Differential Voltammetry. The concentration of Co (Ⅱ) in the range of 8.0 × 10-9 ~ 7.0 × 10-7mol·L-1 has a good linear relationship with the peak height of anodic dissolution, the detection limit is 1.2 × 10-9mol · L-1. Electrode for the determination of cobalt in water samples, the results are satisfactory.
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