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MoO3的饱和蒸气压较高,可以直接用热反应蒸发法制备In2O3:Mo(IMO)透明导电薄膜。XPS和XRD测试结果证明,IMO薄膜中的Mo是以Mo^6+离子形式取代了In2O3晶格中的In^3+离子而存在的,没有形成新的化合物,也没有改变In2O3的体心立方晶格结构。在不进行退火、放电等工艺处理的情况下,用常规的反应蒸发法,在约350℃,1.2mm厚的载玻片上制备的IMO薄膜在可见光区域的平均透射