新型三硅氧烷表面活性剂在低能表面的铺展机理

来源 :化学学报 | 被引量 : 0次 | 上传用户:ylh644894056
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为了了解三硅氧烷类表面活性剂在低能表面上的铺展机理,实验研究了5种新型葡糖酰胺类三硅氧烷在石蜡表面铺展行为与时间以及浓度的关系.结果显示:在大多数情况下,葡糖酰胺类三硅氧烷在石蜡表面的铺展是由三相线处非平衡毛细作用力导致,在高浓度的Ⅰ-Ⅱ体系中,表面张力梯度参与驱动液滴的铺展.此外,研究发现表面活性剂的HLB值以及分子体积明显影响其铺展能力,具有适当HLB值的Ⅱ在石蜡表面显示了一定的超铺展行为,并在各浓度下均表现出最佳铺展性能.
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