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探讨了AIN膜和渐变Al-A1N选择性吸收涂层的中频溅射技术，结果表明：增大铝靶电流或减小氩气流量有助于改善AIN反应溅射的工艺稳定性：随着氨气流量的增加，AIN膜的N／AI原子比增大，减小氩气流量或增大铝靶电流对制备满足理想化学计量比的AIN膜有利；AIN膜的致密性随氮气流量和铝靶电流的增大而改善，但氩气流量对AIN致密性没有明显影响；制备的渐变AI-AIN选择性吸收涂层可见光反射率低于6％。光谱选择性较好。