【摘 要】
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利用自己建立的红外光弹系统,研究了各种热处理条件下硅单晶中应力状态的变化。初步得出了硅单晶中的内应力在热处理过程中的变化规律。对实验结果作了简要的分析。
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利用自己建立的红外光弹系统,研究了各种热处理条件下硅单晶中应力状态的变化。初步得出了硅单晶中的内应力在热处理过程中的变化规律。对实验结果作了简要的分析。
Based on the infrared photoelastic system established by ourselves, the change of stress state in silicon single crystals under various heat treatment conditions was studied. The variation of internal stress in the single crystal during heat treatment was obtained. The experimental results made a brief analysis.
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