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介绍了在超大规模集成电路制造工艺中，用化学气相（ＣＶＤ）方法淀积各种薄膜的反应机理和特性，及这些薄膜在器件制造工艺中的应用。
超大规模集成电路中的CVD薄膜淀积技术
【摘 要】
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介绍了在超大规模集成电路制造工艺中，用化学气相（ＣＶＤ）方法淀积各种薄膜的反应机理和特性，及这些薄膜在器件制造工艺中的应用。
【机 构】
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华越微电子有限公司
【出 处】
：
电子工程师
【发表日期】
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2000年7期
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