【摘 要】
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为了获得高质量的光学表面，采用RF磁控溅射法在RBSiC和SSiC陶瓷表面涂覆一层结构致密的PVDSi涂层。采用XRD、AFM和表面轮廓仪对抛光后的PVDSi涂层进行了表征，并在可见光波长范
【机 构】
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常州工程职业技术学院材料工程技术系,中国科学院上海硅酸盐研究所
【基金项目】
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国家重点基础研究规划(863项目)资助项目(2006AA03Z539)
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为了获得高质量的光学表面，采用RF磁控溅射法在RBSiC和SSiC陶瓷表面涂覆一层结构致密的PVDSi涂层。采用XRD、AFM和表面轮廓仪对抛光后的PVDSi涂层进行了表征，并在可见光波长范围内测量了涂层的反射率。结果表明，当RBSiC和SSiC陶瓷表面涂覆PVDSi涂层后，抛光后其表面缺陷明显减少，表面粗糙度的均方根RMS可达埃级，反射率提升幅度明显。并简单分析了反射率提高的主要原因。
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