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本文介绍了提高转移效率、降低噪声的途径,分析了影响 CCD 转移效率的因素,阐明了埋沟原理。简要介绍了埋沟 CCD 的研制工艺及实验结果。
CCD高转移效率研究
【摘 要】
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本文介绍了提高转移效率、降低噪声的途径,分析了影响 CCD 转移效率的因素,阐明了埋沟原理。简要介绍了埋沟 CCD 的研制工艺及实验结果。
【机 构】
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重庆光电技术研究所重庆永川632163
【出 处】
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半导体光电
【发表日期】
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1990年4期
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