退火对溅射沉积ITO膜电学性能的影响

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运用直流磁控反应溅射技术在氮气和氧气气氛下,以In(90wt%)-Sn(10wt%)作为靶材,基体处于自然升温状态下沉积ITO膜。在空气中,选用200℃,250℃,300℃,350℃,400℃保温20min,对ITO膜进行退火处理。这里着重研究溅射气氛及退火条件对膜的方块电阻的影响。
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