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期刊论文
极紫外光刻投影光学系统的研究
极紫外光刻投影光学系统的研究
来源 :光机电信息 | 被引量 : 0次 | 上传用户:fazaizhaoyun
【摘 要】
:
本文探讨了一种可应用于极紫外光刻光学系统的离轴五反射镜系统,它在光学质量、自由工作距离方面满足了极紫外光刻商业化的要求。在此基础上,文章对精密非球面加工和计算机辅
【作 者】
:
秦秋霞
【机 构】
:
郑州交通技师学院
【出 处】
:
光机电信息
【发表日期】
:
2009年7期
【关键词】
:
极紫外
投影光学系统
光刻
extreme-ultraviolet (EUV)
projection optics system
lithography
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本文探讨了一种可应用于极紫外光刻光学系统的离轴五反射镜系统,它在光学质量、自由工作距离方面满足了极紫外光刻商业化的要求。在此基础上,文章对精密非球面加工和计算机辅助光学装校也进行了探讨。
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