光学邻近校正改善亚微米光刻图形质量

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论述了近年来光学邻近校正技术的进展,讨论了各种行之有效的改善光刻图形质量的校正方法,并分析了邻近效应校正在未来光刻技术中的地位和作用。 The progress of optical proximity correction technology in recent years is discussed. Various effective correction methods to improve lithography quality are discussed. The position and function of proximity correction in future lithography technology are also analyzed.
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