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2014年12月24日，工业和信息化部批准并公布《低化学处理紫激光光聚合CTP版》（HG/T 4743-2014），该标准适用于以铝版基为支持体、涂布紫激光光敏层以及保护层而制成的低化学处理紫激光光聚合CTP版，用于波长为405nm的激光光源的计算机直接制版机的制版，并采用低化学处理方式（处理液pH值为7.2～9.5）进行显影加工。该标准将于2015年6月1日起施行。