【摘 要】
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研究了在异丙醇中镅的电沉积行为。提出了镅、锔电沉积制源的程序。亚微克量的镅、锔在异丙醇(pH=3—4)中电镀70分钟(密电流度10毫安/厘米~2,电压1000伏左右),镅的沉积率为96
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研究了在异丙醇中镅的电沉积行为。提出了镅、锔电沉积制源的程序。亚微克量的镅、锔在异丙醇(pH=3—4)中电镀70分钟(密电流度10毫安/厘米~2,电压1000伏左右),镅的沉积率为96.0±0.7%,锔的沉积率为95.7±0.4%。
Electrodeposition behavior of 镅 in isopropanol was studied. Proposed 镅, 锔 electrodeposition source program. Sub-microgram quantities of 镅, 锔 in isopropanol (pH = 3-4) for 70 minutes plating (dense current 10 mA / cm ~ 2, voltage 1000 V or so), 镅 deposition rate of 96.0 ± 0.7%沉 deposition rate of 95.7 ± 0.4%.
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