【摘 要】
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本文采用低压化学气相沉积法,通过控制生长时间在铜箔表面制备出h-BN,并利用热氧化法将未被h-BN覆盖的铜箔表面氧化,使h-BN与氧化铜箔在显微镜下对比明显,随后采用石蜡转移的
【机 构】
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江南大学电子工程系物联网技术应用教育部工程研究中心
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本文采用低压化学气相沉积法,通过控制生长时间在铜箔表面制备出h-BN,并利用热氧化法将未被h-BN覆盖的铜箔表面氧化,使h-BN与氧化铜箔在显微镜下对比明显,随后采用石蜡转移的方法将生长的h-BN从铜箔转移到目标衬底上。利用光学显微镜,扫描电子显微镜,原子力显微镜、拉曼光谱仪和双光束紫外-可见分光光度计对生长的h-BN进行表征。结果表明:石蜡转移的三角形h-BN纳米片表面平整,尺寸约为10μm,厚度约1nm,得到的h-BN薄膜具有表面洁净度高和连续均匀等优点,h-BN薄膜在1370cm-1处有显著拉曼特征
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