【摘 要】
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应用循环伏安法、X射线光电子能谱法、电化学阻抗谱法以及现场椭圆偏光法研究了在弱碱性介质中添加Cl-对铜电极腐蚀行为的影响.结果表明,Cl-的加入能加剧铜电极的腐蚀,使腐蚀
【机 构】
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北京大学化学与分子工程学院,北京航空航天大学材料科学与工程系,重庆大学应用化学系
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应用循环伏安法、X射线光电子能谱法、电化学阻抗谱法以及现场椭圆偏光法研究了在弱碱性介质中添加Cl-对铜电极腐蚀行为的影响.结果表明,Cl-的加入能加剧铜电极的腐蚀,使腐蚀电流以及现场椭圆偏振参数△的变化范围都增大1个数量级,Cl-对Cu2O的掺杂将使铜电极的表面膜变得疏松,膜的耐蚀性变差.椭圆偏光实验不仅与电化学和能谱实验的结果一致,而且还能定性地、清楚地分辨出铜电极腐蚀过程中Cu2O的生成、Cl-对Cu2O的掺杂、CuO的生成等不同阶段;同时,利用恰当的模型还能定量地确定各个阶段铜电极表面膜的组成、厚度
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