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本文分析了非均匀掺杂衬底MOS电容对线性扫描电压的瞬态响应,提出了饱和电容法测量非均匀掺杂MOS电容少子产生寿命空间分布的方法.该方法的优点是测量与计算简单.
离子注入层少子寿命空间分布的测量
【摘 要】
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本文分析了非均匀掺杂衬底MOS电容对线性扫描电压的瞬态响应,提出了饱和电容法测量非均匀掺杂MOS电容少子产生寿命空间分布的方法.该方法的优点是测量与计算简单.
【机 构】
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西安电子科技大学微电子研究所,西安电子科技大学微电子研究所
【出 处】
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固体电子学研究与进展
【发表日期】
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1990年2期
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