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通过混炼法实现了NBR在本体状态下对有机改性蒙脱土的插层复合.XRD分析表明该复合材料中蒙脱土层间距从1.2nm扩大到4.8nm,TEM研究表明HMMT以1～10nm薄片分散在橡胶基体中.该体系表现出优良物理机械性能.
混炼法制备的NBR／HMMT纳米复合材料的结构与性能研究
【摘 要】
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通过混炼法实现了NBR在本体状态下对有机改性蒙脱土的插层复合.XRD分析表明该复合材料中蒙脱土层间距从1.2nm扩大到4.8nm,TEM研究表明HMMT以1～10nm薄片分散在橡胶基体中.该体
【机 构】
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华南理工大学材料科学与工程学院
【出 处】
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合成橡胶工业
【发表日期】
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2002年4期
【基金项目】
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国家自然科学基金
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