【摘 要】
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<正> 荷兰菲利普科学仪器设备部研制的EBPG-4,是适于生产线用的最小描绘线宽为0.1μm的可变束矢量扫描型电子束曝光装置。除能用于Si和GaAs片子的直接描绘外,还用于掩模制造
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<正> 荷兰菲利普科学仪器设备部研制的EBPG-4,是适于生产线用的最小描绘线宽为0.1μm的可变束矢量扫描型电子束曝光装置。除能用于Si和GaAs片子的直接描绘外,还用于掩模制造。束斑直径在25nm~1mm的范围内变化,若对3英寸片子用2μm的线描绘图形(描绘比例约1/3)约用15分钟。电子束的定位误差在0.075μm以下。加速电压,束流密度及束的大小都能自动控制,这些参数采用CRT显示和键盘确定。价格约200万美元,预定1986年3月出
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