,Structural properties of a-SiOx:H films studied by an improved infrared-transmission analysis metho

来源 :中国物理B（英文版） | 被引量 : 0次 | 上传用户：ly_exe

【作者】

：

Wang Shuo Zhang Xiao-Dan Xiong Shao-Zhen Zhao Ying

【机构】

：

Institute of Photo-electronic Thin Film Device and Technique, Nankai University, Tianjin 300071, Chi

【出处】

：

中国物理B（英文版）

【发表日期】

：

2014年9期

【关键词】

：

amorphous silicon oxide film thin thickness infrared transmission structural pro

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