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分析了电子工业对半导体硅材料的新要求。通过对不同表面状态的硅片力学性能的测试，得出化学腐蚀在改善硅片力学性能方面具有重要作用，适当的化学腐蚀工艺可以大幅减少硅片制备过程中的不良率。
化学腐蚀对硅片力学性能的影响
【摘 要】
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分析了电子工业对半导体硅材料的新要求。通过对不同表面状态的硅片力学性能的测试，得出化学腐蚀在改善硅片力学性能方面具有重要作用，适当的化学腐蚀工艺可以大幅减少硅片制备
【机 构】
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黄石理工学院电气与电子信息工程学院
【出 处】
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黄石理工学院学报
【发表日期】
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2006年4期
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