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化学镀铜反应受甲醛氧化过程动力学控制 ,甲醛氧化为铜离子还原提供电子。化学镀铜层的显微结构受基体的显著影响。镀层延展性降低的主要原因是由氢气泡的缺陷效应 ,特别是第三类氢气泡、晶粒边界气泡空穴。
化学镀铜的沉积过程与镀层性能
【摘 要】
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化学镀铜反应受甲醛氧化过程动力学控制 ,甲醛氧化为铜离子还原提供电子。化学镀铜层的显微结构受基体的显著影响。镀层延展性降低的主要原因是由氢气泡的缺陷效应 ,特别是第
【机 构】
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武汉材料保护研究所
【出 处】
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材料保护
【发表日期】
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2000年01期
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