157nm光刻技术突飞猛进

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一年前似乎还是不可实现的 1 57nm光刻技术 ,如今却即将走入生产线。研究人员努力寻找最佳的材料及工艺使之工作得更为理想。RD的主要独立商 IMEC(Leuven,Belgium)宣布了一项开发 1 57nm技术的新计划 ,该项计划的目标是在 2 0 0 3年达到该工艺可靠运行。尽管光学材料是 1 57nm A 57nm photolithography, which seemed unrealizable a year ago, is now coming to the production line. Researchers strive to find the best materials and processes to make them work better. Leuven, Belgium, a leading independent vendor at RD, announced a new plan to develop a 57nm technology that aims to achieve reliable operation of the process by 2003. Although the optical material is 1 57nm
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