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金属原子比Ti(Ti+Al)R1=0-1.0和金属离子原子比（Ti+Al)/N R2=0.5-1.5范围内，当氮离子束流密度为0．10mA/mm^2氮离子能量为2．0keV时，采用离子束辅助沉积（IBAD）（Al,Ti)N硬质涂层。工艺优化表明，R1=0.25,R2=1.0时，可得到最佳涂层硬度和表面光洁度。由涂层表面及断面电子扫描镜（SEM）分析，三元素涂层（Al,Ti)N组织致密且晶粒细小。由电子探针微分析（EPMA）。涂层内部氮元素处于过饱和状态。由X射线衍射（XRD）分析，最佳处存在AlN(101