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以光还原法沉积Ag修饰Ag-TiO2／SnO2，制备Ag-TiO2／SnO2纳米薄膜，讨论紫外光照时间、光照强度、AgNO3浓度等工艺条件对光催化活性的影响。用XRD和SEM对薄膜的结构、表面形貌和化学组成进行表征，以罗丹明B为模拟污染物对光催化性能进行测定。结果表明，最佳条件下制备的Ag-TiO2／SnO2薄膜，Ag担载量为0．51％（at％），Ag簇直径在30-90nm之间。薄膜具有较高的光催化活性，对罗丹明B的降解率是修饰前TiO2／SnO2薄膜的1．92倍，是相同质量TiO2／ITO薄膜的2．54