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利用直流溅射法在Si、Zn、Ni三种不同衬底上沉积HfNxOy薄膜并测试了其场发射性能。扫描电子显微镜（SEM）显示HfNxOy薄膜表面由纳米颗粒组成，X射线衍射（XRD）说明薄膜中含有HfN和HfO2两种相。场发射测试结果显示，和金属衬底上的薄膜相比，Si衬底上的薄膜的开启电场小且发射电流密度大。文中对三种衬底上发射电流密度大小不同的原因进行了讨论。电流-时间的对应关系说明HfNxOy薄膜的场发射电流稳定。