【摘 要】
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在玻璃衬底上用直流磁控溅射的方法镀制ITO透明半导体膜，采用X射线衍射技术分析了膜层晶体结构与薄膜厚度和氧含量的关系，并测量了薄膜电阻率及透光率分别随膜厚和氧含量的变化
【机 构】
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郑州大学材料科学与工程学院,河南教育学院化学系
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在玻璃衬底上用直流磁控溅射的方法镀制ITO透明半导体膜，采用X射线衍射技术分析了膜层晶体结构与薄膜厚度和氧含量的关系，并测量了薄膜电阻率及透光率分别随膜厚和氧含量的变化情况。以低氧氩流量比（1/40）并控制膜厚在70nm以上进行镀膜，获得了结晶性好、电阻率低且透光率高的ITO透明半导体薄膜，所镀制的ITO膜电阻率降到1．8×10^-4Ω·cm，可见光透光率达80％以上。
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