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本文以CPU金属刻蚀去胶腔为背景，简述干刻清洗工艺开发和评价过程。针对实际应用中的问题，展开讨论。通过实际案例分析．展示了CPU干刻清洗工艺的应用价值。
CPU干刻清洗工艺在金属刻蚀去胶腔上的评价及应用
【摘 要】
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本文以CPU金属刻蚀去胶腔为背景，简述干刻清洗工艺开发和评价过程。针对实际应用中的问题，展开讨论。通过实际案例分析．展示了CPU干刻清洗工艺的应用价值。
【机 构】
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上海交通大学微电子学院,上海华虹NEC电子有限公司
【出 处】
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电脑知识与技术：学术交流
【发表日期】
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2006年10期
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