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利用Ar^+束溅射沉积技术实现了CdTe薄膜的低温生长,利用电化学方法进行了HgCdTe表面自身阳极氧化膜的生长,利用生工的CdTe介质膜和HgCdTe表在身阳极氧化膜对n-HgCdTe光导器件进行了表面钝化。对两种器件的电阻、各项性能指标进行了测量分析,实验表明得到的CdTe/HgCdTe同质量已达到器件实用化水平。