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研究了Au/a-Ge双层膜退火后形成花样的分布及其分维。单个分形枝叉的疏密可用简单分维定量描述。多重分形谱可以很好地定量描述了多个分形区的分布的变化,分形花样稀少且分布不均匀的图形对应的分形谱较宽。经100℃退火60min后薄膜中出现分布不均匀的很少的分形花样,经120℃退火60min后分形花样布满整个薄膜表面,相应的分形谱宽度△α从3.70减小到0.23。