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物理气相沉积（ＰｈｙｓｉｃａｌＶａｐｏｒＤｅｐｏｓｉｔｉｏｎ，简称ＰＶＤ）是将清洁处理过的工件于真空环境中或等离子环境中的表面成膜技术。在ＰＶＤ工艺中，包括有电阻蒸发、电子束蒸发、溅射和离子镀四种专门蒸发工艺。按工艺流程划分，膜层的生成必须经过固体→...
干法制膜PVC技术
【摘 要】
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物理气相沉积（ＰｈｙｓｉｃａｌＶａｐｏｒＤｅｐｏｓｉｔｉｏｎ，简称ＰＶＤ）是将清洁处理过的工件于真空环境中或等离子环境中的表面成膜技术。在ＰＶＤ工艺中，包括有电阻蒸发、电子束蒸发、溅射和离子镀四种专门蒸发工艺。按工艺流程划分，膜
【机 构】
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核工业理化工程研究所
【出 处】
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电镀与精饰
【发表日期】
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1999年1期
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