论文部分内容阅读
采用SX-4—13箱式回火电阻炉，在氮气保护条件下对电弧离子镀技术沉积的TiA1N膜层进行回火热处理。研究回火温度对TiA1N膜层表面形貌、粗糙度、显微硬度、耐磨性的影响。结果表明：回火温度为300℃时膜层表面形貌连续、光滑、粗糙度最低，粗糙度值为0．30。力学试验结果表明：回火温度为3000C时膜层的表面显微硬度最高，由未回火热处理前的1800HV0.01，升高到2000HV0.01此温度下膜层的耐磨性最好，回火温度过高或者过低都会降低膜层的表面质量。