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[期刊论文] 作者：刘红艳,万关良,闫志瑞,
来源：中国稀土学报 年份：2003
对目前硅片湿式化学清洗方法中常用的化学清洗溶液的清洗机理、清洗特点、清洗局限以及清洗对硅片表面微观状态的影响进行了详细论述。介绍了兆声波、臭氧、电解离子水、只用...
[期刊论文] 作者：陈海滨,周旗钢,万关良,肖清华,,
来源：稀有金属 年份：2006
测量300 mm双面磨削硅片损伤层厚度,不仅可以为优化双面磨削工艺提供科学依据,并最终可以减少双面磨削损伤层厚度,而且可以有助于减少抛光时间,改善抛光硅片的几何参数.本文...
[期刊论文] 作者：谢书银, 袁鹏, 万关良, 李励本, 张锦心,,
来源：稀有金属 年份：2004
通过１２００℃、１５ｈ急冷热处理实验，研究了硅中位错对高温塑性形变的影响及热处理过程中位错密度的变化。实验结果表明，硅中原有位错密度越大或热处理急冷温度越高，均使塑性形变更加严重......
[期刊论文] 作者：郝玉清,张果虎,常青,方锋,吴志强,万关良,秦福,
来源：稀有金属 年份：1998
为控制氧径向均匀性，选择Φ３５０ｍｍ热场。增加晶转速度可以改善氧径向均匀性，但石英坩埚转速对氧径向均匀性没有明显影响。To control the oxygen radial uniformity, choose Φ350m...
[期刊论文] 作者：闫志瑞,李俊峰,刘红艳,万关良,李耀东,鲁进军,
来源：电子工业专用设备 年份：2004
对硅片清洗设备的日常维护从清洗工艺的角度进行了分析,并对具体问题的处理方案进行了阐述,从而使清洗设备工作更加稳定....
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