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[学位论文] 作者：仇礼钦,,
来源：浙江大学 年份：2021
浸没式光刻机因对光刻分辨率有着显著提高,且同时对传统光刻机的改变最小,所以成为了65nm及以下集成电路制造中的主流设备。浸没单元是浸没式光刻机中的关键部件,在浸没单元安装、调试和工作等场景中,产生了对其z、Rx、Ry三自由度位姿的调节需求。浸没单元z、Rx......
[期刊论文] 作者：戴科峰, 仇礼钦, 盛飞龙, 高桑田, 王鑫,
来源：机电工程技术 年份：2022
外延设备是碳化硅产业链的重要设备之一，设备的控制系统直接决定了设备的优劣。设计与实现了一套碳化硅外延设备控制系统，详细介绍了外延设备控制系统总体设计、软硬件架构和各分系统关键技术。通过高内聚、低耦合，高度的模块化设计，实现端口、零件到模块的逐级封装......
[期刊论文] 作者：毛朝斌, 高桑田, 盛飞龙, 仇礼钦, 王鑫,
来源：电子工业专用设备 年份：2020
针对碳化硅外延工艺过程中压力控制范围大、控制精度高的要求，以及受到温度、气流变化大的影响，介绍了一种用于碳化硅高温外延工艺的高温外延炉腔内压力控制系统。通过分析碳化硅外延炉压力控制系统，提出了模糊自适应PID控制算法。在国产碳化硅外延设备上进行验证，......
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