搜索筛选:
搜索耗时2.7708秒,为你在为你在102,285,761篇论文里面共找到 80 篇相符的论文内容
发布年度:
[期刊论文] 作者：侯德胜,
来源：光电工程 年份：1997
阐述利用半导体激光的频率变化和波长变化测量干涉仪光程差的基本原理，探讨一种在长度的两个端点干涉测量长度的新方法，即端点干涉测长法的原理，推导这种方法测量长度的公式，指出......
[期刊论文] 作者：侯德胜,
来源：黑龙江科技信息 年份：2008
一个演员要把那些具有鲜明特征的典型人物形象着重展现在舞台上，奉献给观众，就必须要以剧本为主要依据，以创造生动鲜活的舞台人物形象为最终目的。舞台——就是演员展示艺术才华......
[会议论文] 作者：侯德胜,
来源：第十二届全国电子束、离子束和光子束学术年会 年份：2003
AutoCAD软件具有强大的图形绘制与编辑功能,能够方便的绘制各种复杂的组合图形,它能输出DXF格式的文本文件,但不能直接输出制版通用的CIF格式文件,因而不能直接用于掩模制版....
[会议论文] 作者：侯德胜,
来源：第五届全国光电技术及系统学术会议 年份：1993
本文基于半导体激光的线性调频技术以及拍频测量技术，提出一种利用半导体激光干涉测量长度的方法——端点测长法。...
[期刊论文] 作者：侯德胜,
来源：广东教育·综合 年份：2008
惴惴不安之中，我校第三届教案评选终于尘埃落地，可谓几家欢喜几家忧。受表彰的教案不外有两大亮点：一是细，二乃花。细者，就是详细，此类教案面面俱到，甚至是课堂之每一句师生对白教师之每一个神情动作板书之些微变化，都有案可循，洋洋洒洒一课时即可达十几页之多；而花则是花......
[期刊论文] 作者：侯德胜,
来源：中华消化杂志 年份：1986
...
[期刊论文] 作者：孙方,侯德胜,
来源：光电工程 年份：2000
讨论了相移掩模提高光刻分辨力的基本原理，提出了一种抗蚀剂相移器制作衰减相移掩模的新方法，利用自行设计、建立的ＫｒＦ准分子激光投影光刻实验曝光系统进行了实验研究，给出了实验结......
[会议论文] 作者：侯德胜,孙方,
来源：第七届全国固体薄膜学术会议 年份：2000
该文介绍光致抗蚀剂薄膜在光刻掩模制作中的一种新的应用，即用光致抗蚀剂薄膜来制作光刻用的衰减相移掩模。介绍这种新方法的原理和制作工艺，并将制作的光致抗蚀剂衰减相移掩模......
[会议论文] 作者：侯德胜,杜春雷,
来源：第九届全国电子束.离子束.光子束学术年会 年份：1997
...
[期刊论文] 作者：赵庆生,侯德胜,,
来源：吉林医学 年份：1984
先将胶皮套(商店有售)放入新洁尔灭溶液中浸泡30分钟,然后,把胶皮套套扎在阴茎根部,松紧适度达到止血目的即可。此法优点是减少出血,术野清洁,手术时间缩短,简便易行。柳河...
[期刊论文] 作者：侯德胜,周明宝,
来源：光电工程 年份：1999
半导体激光端点干涉测长法是利用半导体激光频率调制特性的一种在长度的两个端点干涉测量长度的新方法。本文介绍基于这种测长方法研制的半导体激光端点测长干涉仪实验的基本...
[期刊论文] 作者：冯伯儒,侯德胜,,
来源：光学工程 年份：1986
本文叙述一种用逐次双曝光方法进行全息干涉计量的原理和实验系统,并给出了实验结果和初步分析。...
[期刊论文] 作者：侯德胜,冯伯儒,
来源：微细加工技术 年份：1999
激光直写系统是国际上９０年代制作集成电路光刻掩模版的新型专用设备。微细加工光学技术国家重点实验室从加拿大引进了国内第一台激光直写系统。利用这台系统，通过高精度激光束在......
[会议论文] 作者：赵泽宇;侯德胜;,
来源：第五届全国光子学大会 年份：2004
文中主要介绍了采用电化学刻蚀方法制作精细光栅金属模版的原理及方法。在电化学金属阳极溶解原理的基础上，将电化学刻蚀技术与电镀技术相结合，有效解决了电化学刻蚀过程中由于......
[会议论文] 作者：冯伯儒,侯德胜,
来源：第十一届全国半导体集成电路、硅材料学术会议 年份：1999
该文论述了光刻技术的发展及光刻极限，着重对准分子激光光刻技术及其发展态势进行了比较深入的讨论。...
[会议论文] 作者：侯德胜;冯伯儒;,
来源：第十一届全国半导体集成电路、硅材料学术会议 年份：1999
激光直写系统是制作光刻掩模和ＡＳＩＣ器件的新型专用设备。微细加工光学技术国家重点实验室引进了国内第一台激光直写系统。利用这台系统，通过高精度激光束在光致杭蚀剂上扫描曝光，能......
[期刊论文] 作者：冯伯儒,侯德胜,,
来源：光学工程 年份：1987
本文叙述用细微激光束修整不透明光掩模缺陷的原理、方法和实验系统,给出了实验结果并进行了简短的分析。This paper describes the principle, method and experimental s...
[期刊论文] 作者：侯德胜,冯伯儒,等,
来源：世界产品与技术 年份：2002
激光直写系统是制作光刻掩模和ASIC器件的新型专用设备。微细加工光学技术国家重点实验室引进了男内第一台激光直写系统，利用这台系统，通过高精度激光束在光致抗蚀剂上扫描曝光......
[期刊论文] 作者：邱传凯,杜春雷,侯德胜,
来源：光电工程 年份：1997
研究了利用激光直写技术制作微细图形的工艺方法，应用ＩＳＩ－２８０２型激光直写系统，通过实验，分析了激光曝光机理以及提高实用分辨力的途径。得到了激光直写系统参数与处理工艺参数之间的匹配......
[会议论文] 作者：侯德胜,赵泽宇,刘强,
来源：第五届全国光子学大会 年份：2004
本文介绍一种激光直写技术制作的防伪标识及其制作方法。该防伪标识采用计算机绘图，采用微光刻技术中的光刻掩模制作技术制作母版，再用母版复制成品。文中给出制作实例，并指出其......
相关搜索：
