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[期刊论文] 作者：刘城淋 杨洪广 占勤,
来源：中国科技博览 年份：2017
[摘 要]采用磁控溅射镀膜技术在钼基片表面制備含镍保护层的钛钼多层膜，利用辉光放电光谱方法分析了多层膜元素深度分布，通过PVT法计算了多层膜吸氘量。结果表明：在镀膜功率为230 W，氩气工作分压为0.5 Pa，镀膜起始基片温度为20 ℃条件下，钛膜沉积速率较为稳定，为0.124 ......
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