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[期刊论文] 作者：吴晓鸫,周川淼,
来源：电子器件 年份：2008
为研究存储器的多晶间介质采用ONO（Oxide-Nitride-Oxide）结构的基本特性，从ONO叠层的工作原理和它在器件制作中的工艺结构出发，设计了采用ONO结构存储器的模拟实验，对不同工艺条件......
[期刊论文] 作者：吴晓鸫,徐政,何磊,
来源：电子与封装 年份：2004
本文介绍了几种集成电路物工艺中高精度电阻和电容的制作方法....
[期刊论文] 作者：林丽,聂圆燕,吴晓鸫,,
来源：电子与封装 年份：2012
文章主要介绍了通过对厚多晶硅膜进行饱和掺杂来制作低阻值多晶电阻的方法。分析了多晶硅掺杂扩散模式，其中A类扩散模式能够得到较低的多晶电阻。要使杂质以A类扩散模式掺入多......
[期刊论文] 作者：张世权,马慧红,吴晓鸫,,
来源：电子与封装 年份：2015
首先介绍了多晶电阻在线监控和工艺控制模块（PCM）监控的两种方法：四探针法和范德堡法，并解决了四探针法在线监控方法多晶电阻波动大的问题；针对生产过程中遇到的多晶电阻偏小问题，......
[期刊论文] 作者：马慧红,吴晓鸫,顾爱军,,
来源：电子与封装 年份：2015
化学试剂是微电子制造工艺中清洗工艺的重要材料。由于微电子制造对化学试剂的各项要求极高，在该制造业发展初期，国内中高端生产线以进口化学试剂为主。随着国内原材料厂商工艺......
[期刊论文] 作者：刘国柱,陈杰,林丽,许帅,王新胜,吴晓鸫,,
来源：电子与封装 年份：2011
文章简述了超薄氧化层SiO2的击穿机理,采用了恒定电流法表征超薄氧化层TDDB效应,并研究了清洗方法、氧化温度、氧化方式等工艺因素对超薄氧化层的可靠性影响。实验表明,在850...
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