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[期刊论文] 作者：吴现成,,
来源：高等理科教育 年份：2001
在光学课程教学中,适当压缩几何光学部分,删除原课程中与其他学科相重复的部分以及相对陈旧的内容,吸收利用最新教学研究成果,着重加强现代光学部分的讲授内容,并注意介绍光...
[期刊论文] 作者：吴现成,
来源：科技创新导报 年份：2017
DOI：10.16660/j.cnki.1674-098X.2017.11.124 摘 要：该文使用聚乙烯吡咯烷酮（PVP）与C60组成电荷转移复合物，不但制备出了C60水溶液，而且还成功地制备出了C60水溶性固体材料，采用UV-VIS光谱、红外光谱对水溶液和其固体特性分别做了初步研究和表征。实验表明C60在PVP......
[学位论文] 作者：吴现成,
来源：兰州大学 年份：1991
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[期刊论文] 作者：吴现成,,
来源：城市道桥与防洪 年份：2001
该文从挂篮荷载计算、施工流程、支座及临时固结施工、挂篮安装及试验、合拢段施工、模板制作安装、钢筋安装、混凝土的浇筑及养生、测量监控等方面人手,介绍了S226海滨大桥...
[期刊论文] 作者：吴现成,王博,
来源：人工晶体学报 年份：2000
采用热丝辅助射频等离子体增强化学气相沉积（ＣＶＤ）方法直接在Ｓｉ（１００）衬底上制备了多晶Ｃ３Ｎ４薄膜。Ｘ射线衍射（ＸＲＤ）测试表明薄膜同时含有α－Ｃ３Ｎ４和β－Ｃ３Ｎ４晶相以未知结构。傅立叶变换红外吸收谱（ＦＴＩＲ）表明薄膜内的Ｃ－Ｎ，Ｃ＝Ｎ和Ｃ≡Ｎ键......
[期刊论文] 作者：吴现成,刘国汉,
来源：甘肃科学学报 年份：1999
概述了新型超硬材料－－氮化碳（Ｃ３Ｎ４）的晶体结构、实验室人工合成方法、实验测试手段和结果。从而进一步探讨研究了Ｃ３Ｎ４薄膜在科学技术中潜在的应用前景和科学意义。......
[期刊论文] 作者：王印月,吴现成,
来源：无机材料学报 年份：1989
用光透射法测得了 p-a-Si_(1-x)C_x∶H 膜的隙态密度。对于与隙态有关的弱吸收区,利用 Mott-Davis 近似和隙态为高斯分布的假设,得到了远离平衡费米能级处的隙态分布。对于未...
[期刊论文] 作者：吴现成,王印月,
来源：物理学报 年份：1999
利用射频反应溅射技术在室温下制备了氢化非晶硅碳氮薄膜（ａＳｉＣｘＮｙ∶Ｈ），通过红外透射谱（ＩＲ），光吸收谱［α（λ）］，电子自旋共振谱（ＥＳＲ）和电导率（σ）等测试手段，研究了薄膜的结构和光电特性．在固定甲烷流量γＣＨ４＝３％，氢......
[会议论文] 作者：吴现成;王印月;,
来源：第六届全国固体薄膜学术会议 年份：1998
对室温下利用射频反应溅射技术制备的氢化非晶硅碳氮薄膜（a-SiCN:H）进行了傅立叶变换红外反素外-可见-近红外光学测试，发现由于薄膜中同时存在碳、氮元素，薄膜结构和特性明显地受......
[会议论文] 作者：吴现成;王印月;,
来源：中国科协第三届青年学术年会 年份：1998
该文通过光吸收谱［α（λ）］、电子自旋共振谱（ＥＳＲ）和电导谱研究了室温下反应溅射方法制备的氢化非晶硅碳氮薄膜（α－ＳｉＣＮ：Ｈ）的结构和光电特性。在固定甲烷流量γ〈，ＣＨ〉〈，４〉＝３℅，氢气流量γ〈，Ｈ〉〈，２〉＝１２℅的......
[期刊论文] 作者：王喜昌,范文强,吴现成,
来源：光学精密工程 年份：2007
分析了光在多层不匹配折射率介质中的漫射方程，给出了精确的漫射方程解。用蒙特卡罗方法检验了稳态的漫射方程。通过与多层介质的空间分辨漫反射蒙特卡罗方法的比较，验证了方法......
[期刊论文] 作者：陈光华,吴现成,贺德衍,
来源：无机材料学报 年份：2001
采用射频等离子体增强化学气相沉积(CVD)+负偏压热丝辅助方法直接在Si(100)衬底上制备了多晶C3N4薄膜.X射线衍射测试表明,薄膜同时含有α-和β-C3N4晶相以及未知结构,没有观...
[期刊论文] 作者：吴现成,刘国汉,陈光华,
来源：甘肃科学学报 年份：1999
概述了新型超硬材料——氮化碳（ Ｃ３ Ｎ４ ）的晶体结构、实验室人工合成方法、实验测试手段和结果。从而进一步探讨研究了 Ｃ３ Ｎ４ 薄膜在科学技术中潜在的应用前景和科学意义The cryst......
[期刊论文] 作者：王印月,吴现成,陈光华,
来源：无机材料学报 年份：1989
用光透射法测得了 p-a-Si_(1-x)C_x∶H 膜的隙态密度。对于与隙态有关的弱吸收区,利用 Mott-Davis 近似和隙态为高斯分布的假设,得到了远离平衡费米能级处的隙态分布。对于未...
[期刊论文] 作者：晋刚，吴现成，王中训,
来源：黑龙江科技信息 年份：2011
鸡西矿业集团公司张辰煤矿西三采区3...
[会议论文] 作者：吴现成,王博,严辉,陈光华,
来源：第四届中国功能材料及其应用学术会议 年份：2001
着重研究了采用热丝辅助等离子体化学气相沉积+负偏压技术,在CN薄膜制备过程中各种工艺参数(射频功率、衬底负偏压和衬底温度等)对薄膜结构和特性的影响.采用本技术制备CN薄...
[会议论文] 作者：吴现成,王博,严辉,陈光华,
来源：第四届中国功能材料及其应用学术会议 年份：2001
着重研究了采用热丝辅助等离子体化学气相沉积+负偏压技术,在CN薄膜制备过程中各种工艺参数(射频功率、衬底负偏压和衬底温度等)对薄膜结构和特性的影响.采用本技术制备CN薄膜的最佳条件是:衬底温度500～600℃,反应气体总气压110Pa,CH与N的流量比为1:5.5,衬底负偏......
[期刊论文] 作者：王印月,吴现成,王辉耀,陈光华,
来源：兰州大学学报：自然科学版 年份：1995
本文研究了用射频反溅射法制备的非晶硅基系列薄膜（ａ－Ｓｉ：Ｈ，ａ－ＳｉＣｘ：Ｈ，ａ－ＳｉＮｘ：Ｈ和ａ－ＳｉＣｘＮｙ：Ｈ）的红外吸收谱，对其中的主要吸收区进行了分析和讨论。......
[期刊论文] 作者：吴现成,闫大为,徐大印,甄聪棉,,
来源：烟台大学学报(自然科学与工程版) 年份：2008
采用自制的双电解槽、高纯石墨电极，在一定浓度的氢氟酸乙醇溶液中阳极氧化腐蚀硅片制备一定孔隙度的多孔硅．利用荧光分析仪（激发波长250nm）分析了样品的光学特性，在470nm处观测到......
[期刊论文] 作者：吴现成,闫大为,徐大印,甄聪棉,,
来源：科技创新导报 年份：2008
研究多孔硅制备参数对其光致发光行为的影响,是开发新型光电器件的基础。一般考虑三个主要因素：电流密度,腐蚀时间,溶液浓度,这些因素首先对孔隙度产生直接影响.本文提出利用...
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