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[期刊论文] 作者：王学毅,徐岚,唐绍根,,
来源：微电子学 年份：2007
在对深亚微米技术的探索中,通过实践,得到了100 nm以下N型高掺杂浓度超浅结的工艺流程。介绍了采用低能量离子注入技术结合快速热退火技术制作超浅结的方法,并对需要考虑的沟...
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