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[期刊论文] 作者：张定涛,李文彬,姚立红,郑云友,李伟,宋泳珍,袁明,张光明,,
来源：液晶与显示 年份：2013
为解决116.8cm(46in)广视角边缘场切换技术4mask面板生产中的阵列工艺中,发生的一种网点色斑缺陷,应用扫描电子显微镜、聚焦离子束、能谱仪、宏观微观观测仪和线宽测量仪等检...
[期刊论文] 作者：张光明,刘杰,徐守宇,郑云友,吴成龙,曲泓铭,李伟,宋泳珍,李正勳,,
来源：液晶与显示 年份：2013
为了减少制造工艺的流程,改进的4-Mask工艺被广泛应用。但这个工艺仍存在一些问题,如果有源层刻蚀和第二次源漏数据线刻蚀之间间隔时间较长(≥5.9h),则有源层刻蚀所用气体Cl2...
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