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[会议论文] 作者：李含雁;白国栋;蔡军;胡银富;冯进军;,
来源：中国电子学会真空电子学分会第十七届学术年会暨军用微波管研讨会 年份：2009
深反应离子刻蚀是制作太赫兹真空电子器件(包括谐振腔，电子注通道和输出波导等)的方法之一，本文研究了在深反应离子刻蚀中，工艺气体的流量和气压、下电极射频电源功率、刻蚀/钝......
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