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[期刊论文] 作者：李斗熙,吕一林,,
来源：经济理论与经济管理 年份：2007
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[期刊论文] 作者：刘锋,于凯,李相津,李正蘍,李斗熙,,
来源：现代显示 年份：2007
以玻璃基板表面残留的各种微粒(Particles)的去除率为依据,研究TFT-LCD生产清洗工艺中毛刷的旋转方向、旋转速度和毛刷相对玻璃的压入量等因素对玻璃基板表面particles清洗效...
[期刊论文] 作者：郑载润,陈正伟,蒋冬华,李正勳,李斗熙,,
来源：现代显示 年份：2008
采用统计实验方法研究了利用SF6+Cl2混合气体产生的等离子体进行Si和SiNx的反应离子刻蚀技术。在相同的输出功率和压力的条件下,将Si和SiNx的刻蚀速率和选择比表示为SF6百分...
[期刊论文] 作者：郭建, 金基用, 林承武, 明星, 周伟峰, 李斗熙,,
来源：液晶与显示 年份：2004
针对使用半色调掩膜技术的TFT LCD玻璃基板曝光过程中的衍射和干涉现象进行了分析。文中给出了衍射和干涉现象的理论模型,并且对这两种现象在HTM技术中所起的作用进行了解释,...
[期刊论文] 作者：郑载润,崔捷,董宜萍,李伟,李正勳,李斗熙,,
来源：现代显示 年份：2008
以Cl2+SF6为刻蚀气体用RIE刻蚀机在200mtorr压力下刻蚀Channel部a-Silicon。通过调整刻蚀时间,研究a-Silicon剩余厚度对TFT特性的影响,并通过在线电学特性测试设备EPM对TFT器...
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