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[学位论文] 作者：杜明扬,
来源：华侨大学 年份：2020
单晶铜的（111）晶面与单晶石墨烯的超高适配度使其成为生长单晶石墨烯的理想表面。但其加工过程中产生的亚表层缺陷是严重限制单晶石墨烯制备质量及效率的重要因素,为此有效降低超精密切削单晶铜过程中亚表层缺陷的产生及分布已成为单晶石墨烯薄膜产业亟需解决的关......
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