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[学位论文] 作者：束名扬,
来源：哈尔滨工业大学 年份：2016
精密制造技术的不断发展,对测量技术的要求也逐渐提高。微米乃至纳米量级的位移测量已经成为计量领域的一个重要研究方向。传统的做法是采用He-Ne激光干涉测量技术,但是其昂...
[期刊论文] 作者：束名扬,陈健,
来源：机电工程 年份：2019
针对纳米级分辨率光栅干涉传感中存在的细分误差问题,对光栅干涉传感的细分原理、传感信号中的噪声以及非线性误差等方面进行了研究。采用数字细分方式,对传感光电信号进行了...
[期刊论文] 作者：周文,束名扬,兰翔,
来源：科学与信息化 年份：2020
掩膜版在生产、使用和保存的过程中,均有可能产生缺陷。掩膜版上缺陷的存在,会直接影响到每一个芯片的性能,严重者可能会造成整批晶圆的报废。本文主要讨论掩膜版的缺陷类型...
[期刊论文] 作者：束名扬,刘勇,袁卓颖,
来源：微纳电子技术 年份：2021
半导体工艺中图形位置精度作为掩模版的关键技术指标直接决定着光刻套准精度和最终芯片的良品率.在分立器件行业,为满足微米级特征尺寸图形套准精度,要求工作掩模版图形位置精度达到亚微米级.依据掩模版复制原理提出了一种真空复制光刻方案,并利用有限元方法分......
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