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[会议论文] 作者：杨彦译;,
来源：中国工业气体工业协会第十五次会员代表大会暨气体行业发展研讨会 年份：2005
目前,三氟化氮正被研究作为一种半导体干气体蚀刻剂。这是因为它有很高的蚀刻速率和选择性。由于这种气体刚用于电子工业,故本文将对该化合物的物理和化学性质加以论述,并提...
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