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[期刊论文] 作者：G.E.McGuire,欧福贤,,
来源：半导体情报 年份：1980
半导体生产中的光刻工艺要求使用能确定器件某种特征的高质量的掩模材料。除了要求掩模材料能阻挡光刻操作所必需的光化辐射外(主要是紫外线),对掩模材料的要求可能是完全不...
[期刊论文] 作者：藤森敬三,欧福贤,,
来源：半导体情报 年份：1976
有关半导体器件或集成电路的批量生产中的晶体生长、扩散、氧化工艺等加工技术跟电气特性的关系已讨论的比较详细了。而电极形成工艺,除特殊器件外,一般满足于作成欧姆接触...
[期刊论文] 作者：升田公三,欧福贤,,
来源：半导体情报 年份：2004
X 线复印为什么变得必要起来?本文叙述了它的发展必然性与电子束复印的相互关系,为了对 X 线复印的原理进行讲解,在对掩模、X 线源,X 线抗蚀剂,掩模重合等边举实例的同时,边...
[期刊论文] 作者：浅野雅文,欧福贤,,
来源：半导体情报 年份：2004
随着大规模集成电路(LSI)的高密度化,图形微细化,进一步对尺寸、曝光精度有更严格的要求,所以从光刻掩模到光致抗蚀剂剥离技术这一系列的光刻工艺过程(装置的选择、安装、维...
[期刊论文] 作者：香取佳一郎,欧福贤,,
来源：半导体情报 年份：2004
一、引言千兆赫频带功率管的进展非常显著,最近终于出现了4千兆赫下输出5瓦、增益为4分贝的晶体管。几乎在同时,我们也报导了在4千兆赫下输出1瓦,增益为5分贝的FT1706型晶体...
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