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[学位论文] 作者：满小花,,
来源： 年份：2009
本文首先介绍了磁控溅射镀膜过程中等离子体的性质、主要参数、气体放电过程以及等离子体的研究现状。其次概述了磁控溅射技术的发展状况、磁控溅射原理及特点；并分析了溅射沉......
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